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Xenón de alta pureza e xenón ultrapuro (Xe: 5N, 5,5N, 6N)
| Elemento | Propiedade técnica | ||
| Xenón de alta pureza GB/T5828-2006 | Xenón ultrapuro | ||
| Pureza do xenón (Xe) (fracción volumétrica)/10-2≥ | 99.999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Nitróxeno (N2) contido (fracción volumétrica)/10-6≤ | 2.5 | 1.5 | 0,2 |
| Osíxeno (O2) contido (fracción volumétrica)/10-6≤ | 1,5 (O2+Ar) | 0,5 (O2+Ar) | 0,1 |
| Contido de argón (Ar) (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Hidróxeno (H2) contido (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
| Contido de monóxido de carbono (CO) (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 (CO + CO2) |
| Contido de dióxido de carbono (CO2) (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | |
| Metano (CH4) contido (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Auga (H2contido de O) (fracción volumétrica)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Contido de criptón (Kr) (fracción volumétrica)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Óxido nitroso (N2contido de O) (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 |
| Fluoruro (C2F6) contido (fracción volumétrica)/10-6≤ | 0,5 | 0,1 | 0,05 |
| Fluoruro (SF6) contido (fracción volumétrica)/10-6≤ | N/D | N/D | 0,05 |
Campos de aplicación: úsase principalmente na industria de semicondutores, aeroespacial, industria de fontes de luz eléctrica, tratamento médico, baleiro eléctrico, investigación de materia escura, láser e outros campos
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