
| વસ્તુ | ટેકનિકલ પ્રોપર્ટી | ||
| ઉચ્ચ શુદ્ધતા ઝેનોન જીબી/ટી૫૮૨૮-૨૦૦૬ | અલ્ટ્રાપ્યુર ઝેનોન | ||
| ઝેનોન (Xe) શુદ્ધતા (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-2≥ | ૯૯.૯૯૯ | ૯૯.૯૯૯૫ | ૯૯.૯૯૯૯ |
| નાઇટ્રોજન (N2) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૨.૫ | ૧.૫ | ૦.૨ |
| ઓક્સિજન (O2) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૧.૫(ઓ2+અર) | ૦.૫(ઓ2+અર) | ૦.૧ |
| આર્ગોન (Ar) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૦.૦૫ | ||
| હાઇડ્રોજન (H2) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૦.૫ | ૦.૫ | ૦.૦૫ |
| કાર્બન મોનોક્સાઇડ (CO) નું પ્રમાણ (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/૧૦-6≤ | ૦.૨ | ૦.૧ | ૦.૦૫(CO+CO2) |
| કાર્બન ડાયોક્સાઇડ (CO2) નું પ્રમાણ (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૦.૩ | ૦.૧ | |
| મિથેન (CH4) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૦.૩ | ૦.૧ | ૦.૦૫ |
| પાણી (H2O) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | 2 | 1 | ૦.૧ |
| ક્રિપ્ટોન (Kr) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | 2 | 1 | ૦.૧ |
| નાઈટ્રસ ઓક્સાઇડ (N2O) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૦.૨ | ૦.૧ | ૦.૦૫ |
| ફ્લોરાઇડ (C2F6) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | ૦.૫ | ૦.૧ | ૦.૦૫ |
| ફ્લોરાઇડ (SF)6) સામગ્રી (વોલ્યુમ અપૂર્ણાંક)/10-6≤ | લાગુ નથી | લાગુ નથી | ૦.૦૫ |
એપ્લિકેશન ક્ષેત્રો: મુખ્યત્વે સેમિકન્ડક્ટર ઉદ્યોગ, એરોસ્પેસ, ઇલેક્ટ્રિક લાઇટ સોર્સ ઉદ્યોગ, તબીબી સારવાર, ઇલેક્ટ્રિક વેક્યુમ, શ્યામ દ્રવ્ય સંશોધન, લેસર અને અન્ય ક્ષેત્રોમાં વપરાય છે.