
| Przedmiot | Własność techniczna | ||
| Krypton o wysokiej czystości GB/T5829-2006 | Ultraczysty krypton | ||
| Czystość Kr (ułamek objętościowy)/10-2≥ | 99,999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Azot (N2) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 2 | 1,5 | 0,2 |
| Tlen (O2) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 1,5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Zawartość argonu (Ar) (ułamek objętościowy)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Wodór (H2) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 0,5 | 0,2 | 0,05 |
| Zawartość tlenku węgla (CO) (ułamek objętościowy)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Dwutlenek węgla (CO2) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 0,4 | 0,1 | 0,05 |
| Metan (CH4) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Woda (H2O) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Zawartość ksenonu (Xe) (ułamek objętościowy)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Fluorek (CF4) zawartość (ułamek objętości)/10-6≤ | 1 | 0,2 | 0,05 |
Obszar zastosowania: stosowany głównie w przemyśle półprzewodników, przemyśle próżni elektrycznej, przemyśle źródeł światła elektrycznego, a także w gazach laserowych, medycynie i innych dziedzinach