
| Item | Propriedade Técnica | ||
| Criptônio de alta pureza GB/T5829-2006 | Criptônio ultrapuro | ||
| Pureza de Kr (fração de volume)/10-2≥ | 99,999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Nitrogênio (N2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 2 | 1,5 | 0,2 |
| Oxigênio (O2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 1,5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Conteúdo de argônio (Ar) (fração de volume)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Hidrogênio (H2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 0,5 | 0,2 | 0,05 |
| Conteúdo de monóxido de carbono (CO) (fração de volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Dióxido de carbono (CO2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 0,4 | 0,1 | 0,05 |
| Metano (CH4) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Água (H2O) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Conteúdo de xenônio (Xe) (fração de volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Fluoreto (CF4) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 1 | 0,2 | 0,05 |
Campo de aplicação: usado principalmente na indústria de semicondutores, indústria de vácuo elétrico, indústria de fonte de luz elétrica, bem como gás laser, saúde médica e outros campos