Izdelki
Visoko čisti kripton in ultra čisti kripton (Kr: 5N, 5,5N, 6N)
| Predmet | Tehnična lastnina | ||
| Visoko čist kripton GB/T5829-2006 | Ultračisti kripton | ||
| Čistost Kr (volumski delež)/10-2≥ | 99,999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Dušik (N2) vsebnost (volumski delež)/10-6≤ | 2 | 1,5 | 0,2 |
| Kisik (O2) vsebnost (volumski delež)/10-6≤ | 1,5(O)2+Ar) | 0,5(O)2+Ar) | 0,1 |
| Vsebnost argona (Ar) (volumski delež)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Vodik (H2) vsebnost (volumski delež)/10-6≤ | 0,5 | 0,2 | 0,05 |
| Vsebnost ogljikovega monoksida (CO) (volumski delež)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Ogljikov dioksid (CO2) vsebnost (volumski delež)/10-6≤ | 0,4 | 0,1 | 0,05 |
| Metan (CH4) vsebnost (volumski delež)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Voda (H2vsebnost O) (volumski delež)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Vsebnost ksenona (Xe) (volumski delež)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Fluorid (CF4) vsebnost (volumski delež)/10-6≤ | 1 | 0,2 | 0,05 |
Področje uporabe: uporablja se predvsem v polprevodniški industriji, industriji električnega vakuuma, industriji električnih svetlobnih virov, pa tudi v industriji laserskih plinov, zdravstva in drugih področjih
Napišite svoje sporočilo tukaj in nam ga pošljite
